Responsabile tecnico nanotecnologie

Roberto Canton
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Gli impianti per il trattamento al plasma sono costituiti schematicamente da una camera dove generato il vuoto, un sistema di pompaggio e un sistema di generazione del plasma. I pezzi vengono agganciati ad un telaio in alluminio (chiamato anche antenna) e posti nella camera di reazione e il sistema viene portato in vuoto. Una volta raggiunto il vuoto necessario, viene applicata all’antenna e quindi ai pezzi da trattare, una radiofrequenza che provoca la generazione del plasma.
Gli impianti che sfruttano i plasmi a bassa pressione rappresentano una serie di trattamenti superficiali intrinsecamente “puliti” in quanto operano con bassissime quantità di reagenti e di conseguenza con formazione minima di sottoprodotti. Infatti, i sottoprodotti di reazione sono così minimi che, una volta assorbiti dalle pompe, non è necessario alcun recupero o smaltimento. 

Le fasi che contraddistinguono la lavorazione sono distinguibili in: di carico del materiale, trattamento e infine scarico del prodotto. Le fasi di carico e scarico possono essere gestite da personale o da sistemi automatici.
Il rivestimento si presenta come un coating compatto di spessori abbondantemente sotto il micron.

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