NANOTECNOLOGIE

Responsabile tecnico nanotecnologie
Roberto Canton
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Gli impianti per il trattamento al plasma sono costituiti schematicamente da una camera dove generato il vuoto, un sistema di pompaggio e un sistema di generazione del plasma. I pezzi vengono agganciati ad un telaio in alluminio (chiamato anche antenna) e posti nella camera di reazione e il sistema viene portato in vuoto. Una volta raggiunto il vuoto necessario, viene applicata all’antenna e quindi ai pezzi da trattare, una radiofrequenza che provoca la generazione del plasma.
Gli impianti che sfruttano il plasma a bassa pressione rappresentano una serie di trattamenti superficiali intrinsecamente “puliti” in quanto operano con bassissime quantità di reagenti e di conseguenza con formazione minima di sottoprodotti. Infatti, i sottoprodotti di reazione sono così minimi che, una volta assorbiti dalle pompe, non è necessario alcun recupero o smaltimento.

I punti di forza dei trattamenti di superficie con plasmi a bassa pressione possono essere così riassunti:
Possibilità di esporre qualsiasi materiale senza termodegradarlo.
Processo a secco che non richiede solventi che spesso sono pericolosi per l’ambiente.
Rilascio trascurabile di sottoprodotti indesiderati.
Modificazione della superficie senza alterare le proprietà generali del prodotto.
Le fasi che contraddistinguono la lavorazione sono distinguibili in: di carico del materiale, trattamento e infine scarico del prodotto. Le fasi di carico e scarico possono essere gestite da personale o da sistemi automatici.
Il rivestimento si presenta come un coating compatto di spessori abbondantemente sotto il micron.